PVD镀膜设备（自主开发专利），及镀膜服务如：TiN,TiCN,TiAlN,CrN,DLC等及其它真空设备
们运用世界上最为先进的真空磁控阴极弧与真空磁控离子溅射相结合的物理蒸发沉积技术，将具有更高硬度、更强结合力和更均匀的薄膜运用于工具、刀具、模具以及有高耐磨要求的零部件。与现行的物理蒸发技术相比，胜倍尔超强镀膜技术，由于靶材离化率接近100%以及高强度的受控磁场，因此所沉积的薄膜具有硬度更高、与基件的结合力更强、薄膜厚度更加均匀、薄膜中所含杂质颗粒更少，综合性能更加优良等特点。
整个镀膜系统包括了真空室以及数个阴极弧源和磁控离子溅射源组成。系统由工业控制计算机和可编程逻辑控制器控制，从而使得薄膜的质量和重复性得到精确的控制。
胜倍尔超强镀膜技术与其它技术的区别在于它应用很强的受控表面磁场来限制弧以抑制细微颗粒的产生，同时也导致等离子体的高度离化和高能量，沉积的薄膜具有高密度和极低有害杂质颗粒
为客户提供PVD镀膜设备（自主开发专利），及镀膜服务如：TiN,TiCN,TiAlN,CrN,DLC等